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摄像头模组清洗机

摄像头模组专业清洗机,用于摄像头类产品,如wafer,CMOS, Holder等表面微尘清洗。

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机器简介:

该设备主要用于摄像头模组表面微尘清洗,通过高压纯水冲洗及水气二流体清洗,

从而实现了有效去除Holder,CMOS本体,Wafer等表面微尘颗粒。

清洗对象:手机摄像头模组表面的硅、粉尘、铁屑的清洗;
清洗方式:旋转式二流体喷淋清洗+离心甩干;

机器特点:
摄像头类模组类产品表面粉尘,杂质专用清洗机器;
镜面锈钢一体化封闭机身,对工作环境无污染,适合无尘车间使用要求;
可更换清洗盘清洗多种产品,清洗盘按产品定做;
PLC自动控制,操作方便快捷;
透明防爆前门,安全作业,便于观察;
全系统仪表显示,随时监控清洗状况;
采用二流体清洗,清洗精度高,对产品零损伤,纯水消耗量极小;
旋转式喷杆,避免二次污染产品;
配备静电消除装置、腔壁加热装置,辅助清洗达到最佳效果;
配备2级空气过滤系统,压缩空气符合ISO8573、1标准;
机身紧凑,占用面积小;
完全使用超纯水清洗,符合RoHS标准。
机器规格:

设备外观尺寸

880mm(L)×960mm(W)×1880mm(H)

清洗盘规格

定制(清洗盘直径<ø550mm)

清洗方式

二流体清洗

干燥方式

高速离心甩干

电源供应

AC380V 50HZ

总功率

7KW

耗电量

清洗时: 3.5kw/h

待机时: 1kw/h

传动马力

3HP

环境过滤方式

0.3μm;99.999%

空气过滤方式

1μm×1;0.01μm×1

离心转速

100-1500RPM

纯水消耗量

0-7L/Min

气体消耗量

10-30m³/H

清洗压力

液体压力:3-8Kgf/cm²     空气压力:0.2-0.5Mpa

DI水供应

流量:>7LPM  电阻率:>17MΩ

气源供应

压力:0.45-0.7Mpa;流量:>30m³/H(洁净度符合清洗要求)

纯水入口径

ø12mm软管或PT1/2″内螺纹

气源入口径

ø12mm气管

排水出口径

PT 1″内螺纹

排气口口径

4″×2(需加强抽风,风速大于3m/sec)

机器净重

450KG


摄像头模组清洗机

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